Bersagli in rame ad alta purezza con profilo personalizzato (4N-6N)

Target in rame ad alta purezza con profilo personalizzato (4N-6N) Immagine in evidenza

Breve descrizione:

Specifiche del prodotto
Nome: Target di sputtering sagomato in rame ad alta purezza estruso
Standard: ASTM F68 (rame elettronico privo di ossigeno), ASTM B115, purezza ≥99,99% (4N-6N), conforme alla direttiva RoHS, conforme al regolamento REACH.
Materiale: C10100 (rame OFHC), C10200 (rame privo di ossigeno), rame ad alta purezza (4N/5N/6N)
Superficie: lavorata/lucidata di precisione, Ra ≤0,5 μm, incollaggio opzionale alla piastra di supporto
Sezione trasversale: profili sagomati su misura (ad esempio, rettangolari, tubolari, a gradini o con geometrie complesse)
Lunghezza: 500 mm – 3500 mm
Spessore/Larghezza: da 5 mm a 200 mm (a seconda del design del profilo)
Caratteristiche del prodotto: Purezza ultraelevata con basse impurità controllate · Microstruttura densa e uniforme grazie al processo di estrusione · Capacità di formare geometrie complesse non possibili con la lavorazione standard · Eccellente conduttività termica ed elettrica · Velocità di sputtering costante su superfici sagomate · Elevato utilizzo del materiale e uniformità del film · Difetti minimi e bassa generazione di particelle
Campo di applicazione: pannelli solari a film sottile di grandi dimensioni, rivestimenti per vetri architettonici e automobilistici, elettronica flessibile e deposizione roll-to-roll, filtri e specchi ottici avanzati, strati barriera per semiconduttori che richiedono sorgenti sagomate, backplane per display e sensori tattili, rivestimenti decorativi e funzionali su substrati irregolari, sistemi magnetron ad alta potenza con design di target personalizzati

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Target di sputtering sagomato in rame ad alta purezza estruso – Dichiarazione di processo e garanzia di qualità

I nostri target sagomati in rame estruso sono prodotti appositamente per applicazioni che richiedono geometrie complesse e una deposizione uniforme su superfici non standard, dove i target planari convenzionali risultano inadeguati.

Caratteristiche principali del processo

Il processo produttivo basato sull'estrusione garantisce proprietà del materiale superiori e fedeltà di forma:
●Materia prima di elevata purezza: rame elettrolitico selezionato con livelli verificati di basso ossigeno e impurità.
●Fusione e lega sottovuoto: la fusione a induzione sottovuoto ripetuta consente di ottenere una composizione omogenea con una purezza di 4N-6N.
●Preparazione dei lingotti: Fusione in lingotti cilindrici seguita da omogeneizzazione per ottenere una grana uniforme.
●Estrusione a caldo: l'estrusione a caldo di precisione attraverso matrici personalizzate forma sezioni trasversali complesse con eccellenti caratteristiche di densità e flusso.
●Lavorazione a freddo e ricottura: la trafilatura controllata e il trattamento termico affinano la struttura e alleviano le tensioni.
●Finitura di precisione: la lavorazione CNC e la lucidatura superficiale creano superfici di sputtering lisce su tutti i profili.
●Servizio di incollaggio: Incollaggio opzionale con indio a bassa temperatura di fusione su tubi o piastre di supporto compatibili.
●Gestione in camera bianca: la pulizia finale e il confezionamento sottovuoto prevengono la contaminazione.

Sistema di controllo qualità

● Tracciabilità completa dal catodo di rame grezzo al bersaglio sagomato finito
● Pacchetto di certificazione completo incluso in ogni consegna
● Campioni d'archivio conservati per almeno 3 anni per analisi di terze parti (SGS, BV, ecc.)
● Ispezione al 100% degli attributi vitali:
• Purezza e analisi elementare (GDMS/ICP-MS; ossigeno tipico <5 ppm)
• Verifica della densità (>99% teorica tramite estrusione)
• Microstruttura e uniformità della grana (analisi metallografiche)
• Precisione dimensionale del profilo (CMM 3D; tolleranze tipiche ±0,1 mm)
• Finitura superficiale e assenza di difetti (profilometro + controlli visivi)
● Gli standard interni superano i requisiti ASTM F68. Proprietà tipiche dell'estrusione: conduttività superiore >400 W/m·K, eccellente mantenimento della forma durante la deposizione per sputtering, prestazioni costanti in configurazioni complesse del magnetron.
● Le operazioni compatibili con le camere bianche e la produzione certificata ISO 9001:2015 garantiscono risultati affidabili e ad alte prestazioni, personalizzati in base alle vostre specifiche esigenze di rivestimento.